Go to Contents Go to Navigation

日立化成との特許訴訟で和解 韓国メーカー

記事一覧 2013.04.25 17:46

【ソウル聯合ニュース】韓国の半導体、ディスプレー装置メーカーK.C.Techは25日、半導体素材の酸化セリウムスラリー(CMPスラリー)の特許をめぐる訴訟で、日立化成と和解したと明らかにした。

 化学的機械研磨(CMP)に使用するCMPスラリーは半導体の平坦化工程に使用される研磨液。日立化成は2011年11月、自社の特許を侵害しているとして、米テキサス州オースティンの西部地方裁判所にK.C.Techを提訴。K.C.Techは2012年7月、韓国で特許無効の審判を申し立てていた。

 K.C.Techは和解が成立したことを受け、CMPスラリー事業を強化できるとみられる。

kimchiboxs@yna.co.kr

注目キーワード
スクラップの多い記事
more
more
ホーム ページのトップへ
情報をお寄せください
聯合ニュース日本語版では、イベントの開催告知、取材案内、韓国関連企業のプレスリリースなどの情報をお待ちしております。お寄せいただいた情報は、担当者が検討の上、ご紹介させていただきます。